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上海中欣晶圆半导体申请改善研磨液供给流通方法专利,提升产品良率

2025-12-15 08:32    点击次数:163

国家知识产权局信息显示,上海中欣晶圆半导体科技有限公司申请一项名为“一种改善研磨液供给流通方法”的专利,公开号CN121061764A,申请日期为2025年9月。

专利摘要显示,本发明公开了一种改善研磨液供给流通方法,具体涉及研磨液供给技术领域,包括以下步骤:S1:初始参数检测,S2:对分液葫芦进行结构改造,S3:更换与S2改造后出液口适配的耐腐蚀管路,S4:在分液葫芦出口主管道处安装电磁流量阀与负载,S5:启动研磨机进行试运转。本发明所述的一种改善研磨液供给流通方法,本发明通过在主管道设耐腐蚀电磁流量阀与负载传感器,结合PI D闭环控制,可根据研磨头压力与转速实时调节流量,确保负载变化后0.5s内流量到位,同时通过72小时试运转,搭配原子力显微镜、激光测厚仪、“烘干称重法”及研磨液沉降量化检测,不仅保障研磨稳定性,还大幅降低硅片残留量,避免影响后续清洗、镀膜工序,提升产品良率。

天眼查资料显示,上海中欣晶圆半导体科技有限公司,成立于2019年,位于上海市,是一家以从事计算机、通信和其他电子设备制造业为主的企业。企业注册资本48000万人民币。通过天眼查大数据分析,上海中欣晶圆半导体科技有限公司参与招投标项目19次,财产线索方面有商标信息1条,专利信息255条,此外企业还拥有行政许可77个。

声明:市场有风险,投资需谨慎。本文为AI基于第三方数据生成,仅供参考,不构成个人投资建议。

本文源自:市场资讯

作者:情报员